Photolithographic Patterning of Polymer Surfaces Using the Photo-Freis Rearrangement: Selective Postexposure Reactions

Titel in Übersetzung: Photolithographic Patterning of Polymer Surfaces Using the Photo-Freis Rearrangement: Selective Postexposure Reactions

Thomas Grießer, T. Höfler, S. Temmel, Wolfgang Kern, G. Trimmel

Publikation: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschungBegutachtung

22 Zitate (Scopus)
Titel in ÜbersetzungPhotolithographic Patterning of Polymer Surfaces Using the Photo-Freis Rearrangement: Selective Postexposure Reactions
OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)3011-3016
FachzeitschriftChemistry of materials
Jahrgang19
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2008

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