High resolution residual stress gradient characterization in W/TiN-stack on Si(100): Correlating in-plane stress and grain size distributions in W sublayer

René Hammer, Juraj Todt, Jozef Keckes, Bernhard Sartory, Georg Parteder, Jochen Kraft, Stefan Defregger

Publikation: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschungBegutachtung

7 Zitate (Scopus)
OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)72-78
Seitenumfang7
FachzeitschriftMaterials and Design
Jahrgang132
DOIs
PublikationsstatusVeröffentlicht - 15 Okt. 2017

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