Chemical sensitivity on patterned organic thin films by FFM

Titel in Übersetzung: Chemical sensitivity on patterned organic thin films by FFM

Quan Shen, Gregor Hlawacek, Christian Teichert, Alexandra Lex, Georg Trimmel, Wolfgang Kern

Publikation: KonferenzbeitragPosterForschungBegutachtung

Titel in ÜbersetzungChemical sensitivity on patterned organic thin films by FFM
OriginalspracheEnglisch
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2008
VeranstaltungE-MRS 2008 Spring Meeting - Strasbourg, France
Dauer: 26 Mai 200830 Mai 2008

Konferenz

KonferenzE-MRS 2008 Spring Meeting
OrtStrasbourg, France
Zeitraum26/05/0830/05/08

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